-
Félvezető szilícium-karbid epitaxiális lemezek felfedezése: a teljesítmény előnyei és az alkalmazási lehetőségek
Az elektronikai technológia mai területén a félvezető anyagok döntő szerepet játszanak. Közülük a szilícium-karbid (SiC), mint széles sávú félvezető anyag, kiváló teljesítményelőnyeivel, mint például a nagy áttörési elektromos tér, nagy telítési sebesség, h...Olvass tovább -
Grafit keményfilc – innovatív anyag, a tudomány és a technológia új korszakát nyitja meg
Új anyagként grafit kemény filcként a gyártási folyamat meglehetősen egyedi. A keverési és nemezelési folyamat során a grafénszálak és az üvegszálak kölcsönhatásba lépnek, és olyan új anyagot képeznek, amely megőrzi a grafén magas elektromos vezetőképességét és nagy szilárdságát, valamint ...Olvass tovább -
Mi az a félvezető szilícium-karbid (SiC) lapka
A félvezető szilícium-karbid (SiC) lapkák, ez az új anyag fokozatosan jelent meg az elmúlt években, egyedülálló fizikai és kémiai tulajdonságaival új életerőt adott a félvezetőiparnak. A monokristályokat alapanyagként használó SiC ostyákat gondosan g...Olvass tovább -
Szilícium-karbid lapka gyártási folyamata
A szilícium-karbid ostya nyersanyagként nagy tisztaságú szilíciumporból és nagy tisztaságú szénporból készül, a szilícium-karbid kristályt pedig fizikai gőzátviteli módszerrel (PVT) növesztik, és szilícium-karbid ostyává dolgozzák fel. 1. Nyersanyag szintézis: Nagy tisztaságú szilícium...Olvass tovább -
A szilícium-karbid története és a szilícium-karbid bevonat alkalmazása
A szilícium-karbid (SiC) fejlesztése és alkalmazásai 1. A SiC innováció évszázada A szilícium-karbid (SiC) útja 1893-ban kezdődött, amikor Edward Goodrich Acheson megtervezte az Acheson kemencét, szén anyagok felhasználásával a SiC ipari előállításához. ..Olvass tovább -
Szilícium-karbid bevonatok: Új áttörés az anyagtudományban
A tudomány és a technológia fejlődésével az új anyagú szilícium-karbid bevonat fokozatosan megváltoztatja életünket. Ez a bevonat, amelyet az alkatrészek felületén fizikai vagy kémiai gőzleválasztással, szórással és egyéb módszerekkel készítenek, nagy vonzerőt keltett...Olvass tovább -
SiC bevonatú grafit hordó
A MOCVD berendezések egyik alapelemeként a grafit alap a szubsztrát hordozó- és fűtőteste, amely közvetlenül meghatározza a filmanyag egyenletességét és tisztaságát, így minősége közvetlenül befolyásolja az epitaxiális lap elkészítését, illetve a . ..Olvass tovább -
A szilícium-karbid bevonat elkészítésének módszere
Jelenleg a SiC bevonat elkészítési módszerei elsősorban a gél-szol módszert, a beágyazásos módszert, az ecset bevonási módszert, a plazmapermetezési módszert, a kémiai gázreakciós módszert (CVR) és a kémiai gőzleválasztásos módszert (CVD) foglalják magukban. Beágyazási módszer: A módszer egyfajta hig...Olvass tovább -
Gratulálunk partnerünknek (Semicerának), a SAN 'an Optoelectronicsnak a részvényárfolyam emelkedéséhez
Október 24. – A San'an Optoelectronics részvényei 3,8-ra emelkedtek ma, miután a kínai félvezetőgyártó bejelentette, hogy szilícium-karbid-gyára, amely a cég autóchipek közös vállalatát a svájci ST Microelectronics technológiai óriással látja el, amint az elkészül. .Olvass tovább -
Áttörés a szilícium-karbid epitaxiás technológiában: Útmutató a szilícium-karbid epitaxiális reaktorok gyártásában Kínában
Örömmel jelentjük be, hogy áttörő eredményt értünk el cégünk szilícium-karbid epitaxiás technológiában szerzett szakértelmében. Üzemünk büszke arra, hogy Kína egyik vezető gyártója, amely képes szilícium/karbid epitaxiális reaktorok gyártására. A kivételes minőség iránti elkötelezettségünkkel...Olvass tovább -
Új áttörés: Vállalatunk meghódítja a tantál-karbid bevonat technológiát az alkatrészek élettartamának és hozamának növelése érdekében
Zhejiang, 2023.10.20. – Jelentős lépésként a technológiai fejlődés felé, cégünk büszkén jelenti be a tantál-karbid (TaC) bevonattechnológia sikeres fejlesztését. Ez az áttörő eredmény azt ígéri, hogy jelentős mértékben forradalmasítja az ipart...Olvass tovább -
Óvintézkedések a timföldkerámia szerkezeti részek használatával kapcsolatban
Az elmúlt években az alumínium-oxid kerámiát széles körben használták olyan csúcskategóriás területeken, mint a műszerek, élelmiszer-gyógyászati kezelések, napelemes napelemek, mechanikus és elektromos készülékek, lézeres félvezetők, kőolajipari gépek, autóipari hadiipar, repülőgépipar és egyéb...Olvass tovább