SiC Epitaxy WaferA hordozó széles körű alkalmazkodóképességgel rendelkezik. Nem csak a rugalmas átalakítást támogatja6 hüvelykes ostyahordozó és2 hüvelykes ostyahordozó, hanem számos epitaxia berendezésben is használható, beleértve a különböző epitaxiás típusokat, például az LPE SiC epitaxiát. Ezenkívül a termék üveghordozó ostyákkal is használható a zökkenőmentes átvitel és az ostyák nagy pontosságú feldolgozása érdekében, alkalmas nagy igényű félvezetőgyártásra.
SemiceraSiC epitaxiaA Wafer Carrier szilícium-karbid festék felületkezelést használ, ami nagymértékben javítja a magas hőmérséklet- és korrózióállóságot, így kiválóan használható összetett epitaxiás folyamatkörnyezetekben. Akár benneGaN Epi Wafergyártási vagy egyéb epitaxiás folyamatok során a semicera termékei biztosítják a tökéletes ostyatöltést, minimalizálják a stresszt és a hibákat, valamint javítják a végtermék minőségét.
A Semicera elkötelezett amellett, hogy hatékony és megbízható lapkabetöltési megoldásokat kínáljon a félvezetőipar számára. Kiváló teljesítményével és kialakításával aSiC Epitaxy WaferA Carrier a különféle epitaxiás folyamatok nélkülözhetetlen komponense, amely a legjobb támogatást nyújtja epitaxia berendezéséhez.








-
SiC tűs tálcák ICP maratási folyamatokhoz a ...
-
Nagy tisztaságú szilícium-karbid kristály csónakszállító...
-
41 db 4 hüvelykes grafittalpú MOCVD berendezés ...
-
Grafit szuszceptor szilícium-karbid bevonattal...
-
Második félrészek az Epitaxia alsó terelőihez...
-
Grafit szuszceptor szilícium-karbid bevonattal...