AMOCVDA módszer az egyik legstabilabb eljárás, amelyet jelenleg az iparban használnak kiváló minőségű egykristályos vékonyrétegek, például egyfázisú InGaN epilátumok, III-N anyagok és többkvantumkutatós szerkezetű félvezető filmek termesztésére, és nagy jelentőséggel bír a félvezető és optoelektronikai eszközök gyártása.
ASiC bevonatú MOCVD szuszceptoregy speciális szilícium-karbiddal (SiC) bevont ostyatartóepitaxiális növekedés a fém szerves kémiai gőzleválasztási (MOCVD) folyamatában.
A SiC bevonat kiváló vegyszerállósággal és termikus stabilitással rendelkezik, így ideális választás az igényes epitaxiális növekedési folyamatokban használt MOCVD szuszceptorokhoz.
A MOCVD-eljárás egyik kulcseleme a szuszceptor, amely kulcseleme az előállított vékonyrétegek egyenletességének és minőségének biztosításának.
Mi az a szuszceptor? A szuszceptor egy speciális komponens, amelyet a MOCVD eljárásban használnak annak a szubsztrátumnak a megtámasztására és melegítésére, amelyre a vékony filmet lerakják. Számos funkciója van, beleértve az elektromágneses energia elnyelését, hővé alakítását és a hő egyenletes elosztását a hordozón. Ez az egyenletes melegítés elengedhetetlen a precíz vastagságú és összetételű egyenletes vékonyrétegek kialakulásához.
A szuszceptorok típusai:
1. Grafit szuszceptorok: A grafit szuszceptorokat gyakran vonják be védőréteggel, mint pl.szilícium-karbid (SiC), amely magas hővezető képességéről és stabilitásáról ismert. ASiC bevonatkemény, védőfelületet biztosít, amely ellenáll a korróziónak és a magas hőmérsékleten történő lebomlásnak.
2. Szilícium-karbid (SiC) szuszceptorok: Ezek a szuszceptorok teljes egészében SiC-ből készülnek, és kiváló hőstabilitással és kopásállósággal rendelkeznek. A SiC szuszceptorok különösen alkalmasak magas hőmérsékletű folyamatokhoz és korrozív környezetekhez.
Hogyan működnek a szuszceptorok MOCVD-ben:
A MOCVD eljárás során a prekurzorokat bevezetik a reakciókamrába, ahol lebomlanak, és reakcióba lépve vékony filmet képeznek a hordozón. A szuszceptor létfontosságú szerepet játszik azáltal, hogy biztosítja a szubsztrátum egyenletes felmelegedését, ami kritikus fontosságú a konzisztens filmtulajdonságok eléréséhez a teljes hordozófelületen. A szuszceptor anyagát és kialakítását gondosan választották meg, hogy megfeleljenek a lerakódási folyamat speciális követelményeinek, mint például a hőmérséklet-tartomány és a kémiai kompatibilitás.
A kiváló minőségű szuszceptorok használatának előnyei:
• Fokozott filmminőség: Az egyenletes hőeloszlás biztosításával a szuszceptor egyenletes vastagságú és összetételű filmeket eredményez, ami kritikus a félvezető eszközök teljesítménye szempontjából.
• Fokozott folyamat hatékonysága: A kiváló minőségű szuszceptorok növelik a MOCVD folyamat általános hatékonyságát azáltal, hogy csökkentik a hibák valószínűségét és növelik a használható filmek hozamát.
• Élettartam és megbízhatóság: A tartós anyagokból, például SiC-ből készült szuszceptorok biztosítják a hosszú távú megbízhatóságot és csökkentik a karbantartási költségeket.
A szuszceptor a MOCVD folyamat szerves része, és közvetlenül befolyásolja a vékonyréteg-lerakódás minőségét és hatékonyságát. Az elérhető méretekkel, MOCVD szuszceptorokkal és árakkal kapcsolatos további információkért forduljon hozzánk bizalommal. Mérnökeink szívesen adnak tanácsot a megfelelő anyagokkal kapcsolatban, és válaszolnak minden kérdésére.
Telefon: +86-13373889683
WhatsAPP: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Feladás időpontja: 2024. augusztus 12