Wafer Susceptoraz epitaxia folyamatának nélkülözhetetlen központi eleme. A Semicera kiváló megoldásokat kínálSi EpitaxiaésSiC epitaxiafolyamatok precíziós tervezésen és gyártáson keresztül. A Wafer Susceptorunk egyenletes hőeloszlást biztosít az epitaxiás folyamat során, és javítja a monokristályos szilícium (Monocrystalline Silicon) réteg lerakódási minőségét. Különböző típusokban jól teljesítMOCVD szuszceptorokésHordó szuszceptorokés különböző félvezető-gyártási folyamatokhoz alkalmas.
SemiceraOstyaA Susceptor nagy szilárdságú anyagokból készül, amelyek kiváló magas hőmérséklet- és korrózióállósággal rendelkeznek, és hosszú ideig stabilak maradhatnak még összetett epitaxiás folyamati körülmények között is. Legyen szó Si Epitaxy vagy SiC Epitaxy eljárásokról, a Semicera Susceptor precíz hőmérséklet-szabályozási támogatást nyújt, hogy biztosítsa az ostyák minőségi konzisztenciáját az epitaxia növekedése során.
Ezen túlmenően a Semicera Wafer Susceptor precíziós feldolgozása a különféle berendezések és specifikációk követelményeinek való megfelelés érdekében, különösen a MOCVD szuszceptor és hordó szuszceptor alkalmazásokban. Kiváló anyagválasztással és folyamatszabályozással termékeink nemcsak javítják a termelés hatékonyságát, hanem jelentősen csökkentik a hibaarányt és az energiafogyasztást is a folyamat során.
A félvezetőipar rendkívül igényes epitaxiás folyamataihoz a Semikera Wafer Susceptor az ideális választás. Akár kutatás-fejlesztésről, akár tömeggyártásról van szó, a Wafer Susceptor segítségével ügyfeleink nagyobb megbízhatóságot és jobb kristályszerkezetet érhetnek el a Si Epitaxy és SiC Epitaxy folyamatokban.
✓Csúcsminőség a kínai piacon
✓Jó szolgáltatás mindig az Ön számára, 7*24 óra
✓Rövid szállítási határidő
✓Small MOQ üdvözli és elfogadja
✓Egyedi szolgáltatások
