Szilícium-karbid epitaxiális ostyatárcsák VEECO berendezésekhez

Szilícium-karbid epitaxiálisA semicera VEECO berendezésekhez készült wafer lemezeket precíziós tervezéssel a fejlett epitaxiális folyamatokhoz tervezték, így mindkét esetben kiváló minőségű eredményeket biztosítanak.Si EpitaxiaésSiC epitaxiaalkalmazások. Ezeket az ostyalemezeket kifejezetten a VEECO berendezésekhez tervezték, fokozva a különböző félvezetőgyártási folyamatok teljesítményét és hatékonyságát. A Semicera szakértelme kivételes tartósságot és pontosságot garantál a kritikus alkalmazásokhoz.

Ezek az epitaxiális ostyakorongok ideálisak a használatraMOCVD szuszceptorrendszerek, amelyek erőteljes támogatást nyújtanak az olyan alapvető összetevőknek, mint plPSS rézkarc hordozó, ICP rézkarchordozó, ésRTP hordozó. Ezenkívül fokozott kompatibilitást kínálnak aLED epitaxiális szuszceptor, hordószuszceptor és monokristályos szilícium folyamatok, amelyek biztosítják, hogy gyártósorai a legmagasabb szintű hatékonyságot és pontosságot fenntartsák.

A legmodernebb technológiához tervezett ostyalemezek jelentősen hozzájárulnak a fotovoltaikus alkatrészek előállításához, és megkönnyítik az olyan összetett folyamatokat, mint a GaN a SiC Epitaxy-n. Akár Pancake Susceptor konfigurációkhoz, akár más igényes alkalmazásokhoz használják, a semicera szilícium-karbid epitaxiális ostyakorongjai megbízható alapot biztosítanak a fejlett félvezetőgyártáshoz, optimális teljesítményt és hosszú távú tartósságot biztosítva.