A Semicera szilícium-karbid próbabábu ostya úgy készült, hogy megfeleljen a mai nagy pontosságú félvezetőipar követelményeinek. Kivételes tartósságáról, nagy termikus stabilitásáról és kiváló tisztaságáról ismertostyanélkülözhetetlen a félvezetőgyártás teszteléséhez, kalibrálásához és minőségbiztosításához. A Semicera szilícium-karbid dummy ostyája páratlan kopásállóságot biztosít, biztosítva, hogy leromlás nélkül ellenálljon a szigorú használatnak, így ideális mind a kutatás-fejlesztési, mind a gyártási környezetben.
A különféle alkalmazások támogatására tervezett szilícium-karbid dummy ostyát gyakran használják olyan folyamatokban, amelyekSi Wafer, SiC szubsztrát, SOI ostya, SiN szubsztrát, ésEpi-Wafertechnológiákat. Kiemelkedő hővezető képessége és szerkezeti integritása kiváló választássá teszi a magas hőmérsékletű feldolgozáshoz és kezeléshez, amelyek általánosak a fejlett elektronikai alkatrészek és eszközök gyártásában. Ezenkívül az ostya nagy tisztasága minimalizálja a szennyeződés kockázatát, megőrzi az érzékeny félvezető anyagok minőségét.
A félvezetőiparban a szilícium-karbid dummy ostya megbízható referencia lapkaként szolgál az új anyagok teszteléséhez, beleértve a gallium-oxid Ga2O3 és az AlN lapátot. Ezek a feltörekvő anyagok alapos elemzést és tesztelést igényelnek, hogy biztosítsák stabilitásukat és teljesítményüket különböző körülmények között. A Semicera dummy wafer használatával a gyártók olyan stabil platformot kapnak, amely megőrzi a teljesítmény egyenletességét, és segíti a következő generációs anyagok fejlesztését nagy teljesítményű, RF és nagyfrekvenciás alkalmazásokhoz.
Alkalmazások az iparágakban
• Félvezető gyártás
A SiC Dummy Waferek elengedhetetlenek a félvezetőgyártásban, különösen a gyártás kezdeti szakaszában. Védőgátként szolgálnak, megóvják a szilícium lapkákat az esetleges sérülésektől és biztosítják a folyamat pontosságát.
•Minőségbiztosítás és tesztelés
A minőségbiztosításban a SiC Dummy Waferek kulcsfontosságúak a szállítási ellenőrzések és a folyamatformák értékelése szempontjából. Lehetővé teszik az olyan paraméterek pontos mérését, mint a filmvastagság, a nyomásállóság és a reflexiós index, hozzájárulva a gyártási folyamatok validálásához.
•Litográfia és mintaellenőrzés
A litográfiában ezek az ostyák etalonként szolgálnak a mintaméret mérésére és a hibaellenőrzésre. Precizitásuk és megbízhatóságuk elősegíti a kívánt geometriai pontosság elérését, ami elengedhetetlen a félvezető eszközök működéséhez.
•Kutatás és fejlesztés
K+F környezetben a SiC Dummy Wafers rugalmassága és tartóssága széleskörű kísérletezést tesz lehetővé. A szigorú tesztelési feltételeket elviselni való képességük felbecsülhetetlen értékűvé teszi őket az új félvezető technológiák fejlesztésében.
