Leírás
A SiC bevonattal ellátott Semicorex ostyahordozók kivételes hőstabilitást és vezetőképességet biztosítanak, egyenletes hőeloszlást biztosítva a CVD-folyamatok során, ami kulcsfontosságú a kiváló minőségű vékonyréteg és bevonat jellemzőihez.
Főbb jellemzők:
1. Kiváló hőstabilitás és vezetőképességSiC-bevonatú ostyahordozóink kiválóak a stabil és állandó hőmérséklet fenntartásában, ami kulcsfontosságú a CVD-folyamatokhoz. Ez biztosítja az egyenletes hőeloszlást, ami kiváló vékonyréteg- és bevonatminőséget eredményez.
2. Precíziós gyártásMinden ostyatartó a szigorú szabványok szerint készül, egyenletes vastagságot és felületi simaságot biztosítva. Ez a pontosság létfontosságú az egyenletes lerakódási sebesség és a fóliatulajdonságok eléréséhez több ostya esetében, javítva ezzel az általános gyártási minőséget.
3. SzennyeződészáróA SiC bevonat áthatolhatatlan gátként működik, megakadályozva a szennyeződések diffúzióját a szuszceptorból az ostyába. Ez minimálisra csökkenti a szennyeződés kockázatát, ami kritikus fontosságú a nagy tisztaságú félvezető eszközök előállításához.
4. Tartósság és költséghatékonyságA robusztus felépítés és a SiC bevonat növelik az ostyahordozók tartósságát, csökkentve a szuszceptorcserék gyakoriságát. Ez alacsonyabb karbantartási költségeket és minimális állásidőt eredményez, növelve a félvezetőgyártási műveletek hatékonyságát.
5. Testreszabási lehetőségekA SiC bevonattal ellátott Semicorex ostyahordozók testreszabhatók, hogy megfeleljenek a speciális folyamatkövetelményeknek, beleértve a méret-, forma- és bevonatvastagság-változásokat. Ez a rugalmasság lehetővé teszi a szuszceptor optimalizálását, hogy megfeleljen a különböző félvezető-gyártási folyamatok egyedi igényeinek. A testreszabási lehetőségek lehetővé teszik speciális alkalmazásokhoz, például nagy volumenű gyártáshoz vagy kutatás-fejlesztéshez szabott szuszceptor-konstrukciók kifejlesztését, optimális teljesítményt biztosítva az adott felhasználási esetekben.
Alkalmazások:
A SiC bevonatú Semicera ostyahordozók ideálisak:
• Félvezető anyagok epitaxiális növekedése
• Kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárások
• Kiváló minőségű félvezető lapkák gyártása
• Fejlett félvezetőgyártási alkalmazások