Hír

  • Félvezető eljárások és berendezések (4/7) – Fotolitográfiai eljárások és berendezések

    Félvezető eljárások és berendezések (4/7) – Fotolitográfiai eljárások és berendezések

    Egy áttekintés Az integrált áramkörök gyártási folyamatában a fotolitográfia az alapvető folyamat, amely meghatározza az integrált áramkörök integrációs szintjét. Ennek a folyamatnak az a feladata, hogy hűen továbbítsa és továbbítsa az áramköri grafikus információkat a maszkról (más néven maszkról)...
    Olvass tovább
  • Mi az a szilícium-karbid négyzet alakú tálca

    Mi az a szilícium-karbid négyzet alakú tálca

    A szilícium-karbid négyzet alakú tálca egy nagy teljesítményű hordozóeszköz, amelyet félvezetők gyártására és feldolgozására terveztek. Főleg precíziós anyagok, például szilíciumlapkák és szilícium-karbid lapkák szállítására szolgál. Rendkívül nagy keménységének, magas hőmérséklet-állóságának és kémiai ...
    Olvass tovább
  • Mi az a szilícium-karbid tálca

    Mi az a szilícium-karbid tálca

    A szilícium-karbid tálcák, más néven SiC tálcák, fontos anyagok, amelyeket a félvezető gyártási folyamatban szilíciumlapkák szállítására használnak. A szilícium-karbid kiváló tulajdonságokkal rendelkezik, mint például a nagy keménység, a magas hőmérséklet-állóság és a korrózióállóság, így fokozatosan felváltja a...
    Olvass tovább
  • Félvezető eljárás és berendezések (3/7) – fűtési folyamat és berendezések

    Félvezető eljárás és berendezések (3/7) – fűtési folyamat és berendezések

    1. Áttekintés A hevítés, más néven termikus feldolgozás olyan gyártási eljárásokra utal, amelyek magas hőmérsékleten működnek, általában magasabb, mint az alumínium olvadáspontja. A hevítési folyamatot általában magas hőmérsékletű kemencében végzik, és olyan fő folyamatokat foglal magában, mint az oxidáció,...
    Olvass tovább
  • Félvezető technológia és berendezések (2/7) – ostya előkészítése és feldolgozása

    Félvezető technológia és berendezések (2/7) – ostya előkészítése és feldolgozása

    Az ostyák az integrált áramkörök, diszkrét félvezető eszközök és tápegységek gyártásának fő nyersanyagai. Az integrált áramkörök több mint 90%-a nagy tisztaságú, kiváló minőségű ostyákon készül. Az ostyakészítő berendezés a tiszta polikristályos szilícium...
    Olvass tovább
  • Mi az az RTP Wafer Carrier?

    Mi az az RTP Wafer Carrier?

    A félvezető gyártásban betöltött szerepének megértése Az RTP szelethordozók alapvető szerepének feltárása a fejlett félvezető feldolgozásban A félvezetőgyártás világában a precízió és a vezérlés kulcsfontosságú a modern elektronikát tápláló, kiváló minőségű eszközök előállításához. Az egyik...
    Olvass tovább
  • Mi az Epi Carrier?

    Mi az Epi Carrier?

    Az epitaxiális lapkafeldolgozásban betöltött döntő szerepének feltárása Az Epi-hordozók jelentőségének megértése a fejlett félvezetőgyártásban A félvezetőiparban a jó minőségű epitaxiális (epi) lapkák gyártása kritikus lépés az eszközök gyártásában...
    Olvass tovább
  • Félvezető eljárás és berendezések (1/7) – Integrált áramköri gyártási folyamat

    Félvezető eljárás és berendezések (1/7) – Integrált áramköri gyártási folyamat

    1. Az integrált áramkörökről 1.1 Az integrált áramkörök fogalma és születése Integrált áramkör (IC): olyan eszköz, amely egyesíti az aktív eszközöket, például tranzisztorokat és diódákat, passzív alkatrészekkel, például ellenállásokkal és kondenzátorokkal, egy sor speciális feldolgozási technológia révén...
    Olvass tovább
  • Mi az az Epi Pan Carrier?

    Mi az az Epi Pan Carrier?

    A félvezetőipar rendkívül speciális berendezésekre támaszkodik a kiváló minőségű elektronikus eszközök előállításához. Az epitaxiális növekedési folyamat egyik ilyen kritikus komponense az epi pan hordozó. Ez a berendezés kulcsfontosságú szerepet játszik a félvezető lapkák epitaxiális rétegeinek lerakódásában, ensu...
    Olvass tovább
  • Mi az a MOCVD szuszceptor?

    Mi az a MOCVD szuszceptor?

    A MOCVD-módszer az egyik legstabilabb eljárás, amelyet jelenleg az iparban használnak kiváló minőségű egykristályos vékonyrétegek, például egyfázisú InGaN epirétegek, III-N anyagok és többkvantumkutatós szerkezetű félvezető fóliák termesztésére, és nagy előjelű. ...
    Olvass tovább
  • Mi az a SiC bevonat?

    Mi az a SiC bevonat?

    A szilícium-karbid (SiC) bevonatok rendkívüli fizikai és kémiai tulajdonságaik miatt gyorsan nélkülözhetetlenek a különböző nagy teljesítményű alkalmazásokban. Az olyan technikákkal, mint a fizikai vagy kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD), vagy permetezési módszerekkel alkalmazva a SiC bevonatok átalakítják a...
    Olvass tovább
  • Mi az a MOCVD Wafer Carrier?

    Mi az a MOCVD Wafer Carrier?

    A félvezetőgyártás területén a MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) technológia gyorsan kulcsfontosságú folyamattá válik, amelynek egyik fő összetevője a MOCVD Wafer Carrier. A MOCVD Wafer Carrier fejlesztései nemcsak a gyártási folyamatban tükröződnek, hanem...
    Olvass tovább