SemiceraMOCVDA 3x2” szuszceptor egy kulcsfontosságú komponens, amelyet kifejezetten a félvezetőipar epitaxiás folyamataihoz terveztek, különösenSi EpitaxiaésSiC epitaxiafolyamatokat. AMOCVD szuszceptoraz optimalizált hővezető képesség révén egyenletes hőmérséklet-eloszlást biztosít az epitaxia folyamata során, javítva ezzel a monokristályos szilícium (Monocrystalline Silicon) lerakódás pontosságát és minőségét.
A Semicera mindig is arra összpontosított, hogy ügyfelei számára kiváló minőségű MOCVD 3x2” szuszceptorokat biztosítson. A fejlett anyagokból készült termék nemcsak kiváló magas hőmérséklet-állósággal rendelkezik, hanem összetett kémiai környezetben is stabil marad. Jól teljesít különféle epitaxia berendezésekben, különösenHordó szuszceptoralkalmazások, megbízhatósága és teljesítménye széles körben elismert.
A gyártási hatékonyság maximalizálása és az anyagveszteség csökkentése érdekében testreszabott MOCVD szuszceptorokat kínálunk a különböző folyamatkövetelményekhez. A Semicera MOCVD 3x2” szuszceptor nem csak meghosszabbítja a berendezés élettartamát, hanem stabilabb támogatást is nyújtSi EpitaxiaésSiC epitaxiaA folyamatok precíziós tervezése révén biztosítják az epitaxiális réteg minőségének állandóságát és a termék nagy tisztaságát.
A Semicera mindig elkötelezett amellett, hogy az ügyfelek számára megbízható, tartós és hatékony epitaxiális berendezés-alkatrészeket biztosítson. Akár laboratóriumi környezetben, akár nagyüzemi ipari termelésben, a MOCVD 3x2” szuszceptor a legszigorúbb műszaki követelményeknek is megfelel, segítve az ügyfeleket a magasabb folyamatirányítás és jobb termékteljesítmény elérésében.
✓Csúcsminőség a kínai piacon
✓Jó szolgáltatás mindig az Ön számára, 7*24 óra
✓Rövid szállítási határidő
✓Small MOQ üdvözli és elfogadja
✓Egyedi szolgáltatások
