A Semicera 4”6” nagy tisztaságú félszigetelő SiC tömbjeit úgy tervezték, hogy megfeleljenek a félvezetőipar szigorú szabványainak. Ezeket az öntvényeket a tisztaságra és a konzisztenciára összpontosítva gyártják, így ideális választás a nagy teljesítményű és nagyfrekvenciás alkalmazásokhoz, ahol a teljesítmény a legfontosabb.
Ezeknek a SiC tömböknek az egyedülálló tulajdonságai, beleértve a nagy hővezető képességet és a kiváló elektromos ellenállást, különösen alkalmassá teszik őket teljesítményelektronikában és mikrohullámú készülékekben való használatra. Félig szigetelő jellegük hatékony hőelvezetést és minimális elektromos interferenciát tesz lehetővé, ami hatékonyabb és megbízhatóbb alkatrészeket eredményez.
A Semicera a legmodernebb gyártási eljárásokat alkalmazza, hogy kivételes kristályminőségű és egyenletességű tuskókat állítson elő. Ez a pontosság biztosítja, hogy minden egyes tuskó megbízhatóan használható legyen érzékeny alkalmazásokban, például nagyfrekvenciás erősítőkben, lézerdiódákban és egyéb optoelektronikai eszközökben.
A 4 hüvelykes és 6 hüvelykes méretben is elérhető Semicera SiC tuskói biztosítják a különböző gyártási méretekhez és technológiai követelményekhez szükséges rugalmasságot. Akár kutatásról és fejlesztésről, akár tömeggyártásról van szó, ezek a tuskók azt a teljesítményt és tartósságot biztosítják, amelyet a modern elektronikus rendszerek megkövetelnek.
A Semicera nagy tisztaságú félszigetelő szilícium-karbamid öntvényeinek kiválasztásával olyan termékbe fektet be, amely a fejlett anyagtudományt páratlan gyártási szakértelemmel ötvözi. A Semicera elkötelezett a félvezetőipar innovációjának és növekedésének támogatása mellett, olyan anyagokat kínálva, amelyek lehetővé teszik a legmodernebb elektronikai eszközök fejlesztését.
Tételek | Termelés | Kutatás | Színlelt |
Kristály paraméterek | |||
Politípus | 4H | ||
Felületi tájolási hiba | <11-20 >4±0,15° | ||
Elektromos paraméterek | |||
Adalékanyag | n-típusú nitrogén | ||
Ellenállás | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
Mechanikai paraméterek | |||
Átmérő | 150,0±0,2 mm | ||
Vastagság | 350±25 μm | ||
Elsődleges lapos tájolás | [1-100]±5° | ||
Elsődleges lapos hossz | 47,5±1,5 mm | ||
Másodlagos lakás | Egyik sem | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Íj | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Elülső (Si-felület) érdesség (AFM) | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Szerkezet | |||
Mikrocső sűrűsége | <1 e/cm2 | <10 e/cm2 | <15 e/cm2 |
Fém szennyeződések | ≤5E10 atom/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 e/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Elülső minőség | |||
Elülső | Si | ||
Felületkezelés | Si-face CMP | ||
Részecskék | ≤60ea/ostya (méret≥0,3μm) | NA | |
Karcolások | ≤5ea/mm. Összesített hossz ≤ Átmérő | Összesített hossz≤2*Átmérő | NA |
Narancsbőr/magok/foltok/csíkok/repedések/szennyeződés | Egyik sem | NA | |
Élfoszlányok/bemélyedések/törés/hatlaplemezek | Egyik sem | ||
Politípus területek | Egyik sem | Összesített terület ≤ 20% | Összesített terület ≤30% |
Elülső lézeres jelölés | Egyik sem | ||
Hátsó minőség | |||
Hátsó befejezés | C-arcú CMP | ||
Karcolások | ≤5ea/mm, kumulatív hossz≤2*átmérő | NA | |
Hátsó hibák (széltöredések/benyomódások) | Egyik sem | ||
Hát érdesség | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Hátsó lézeres jelölés | 1 mm (a felső széltől) | ||
Él | |||
Él | Letörés | ||
Csomagolás | |||
Csomagolás | Epi-ready vákuum csomagolással Több ostyás kazettás csomagolás | ||
*Megjegyzések: Az "NA" azt jelenti, hogy nincs kérés A nem említett tételek SEMI-STD-re vonatkozhatnak. |